tzxnef就是用getter。在一定温度下，吸气剂可以吸收氮气、氢气、氧气、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体。经吸收处理后，氩气纯度可达6.9%。这种保护气体更适合制作高纯度半导体单晶硅。
通过吸气剂净化的氩气纯度:
氧气≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
一氧化碳+二氧化碳≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水分≤1ppm
一种方法设备投资少，脱氧剂在设备中的使用寿命一般在四年以上。
等离子清洗机通常使用许多不同的气体，如氧气、氢气、氮气、压缩空气或氩气。那么为什么要使用这种气体，它在等离子清洗机设备中的作用是什么？
氩是惰性气体，离子化的等离子体不会与衬底发生化学反应。在等离子体清洗中，氩气主要用于基片表面的物理清洗和表面粗糙化。因此，氩等离子清洗机广泛应用于半导体行业、微电子行业和晶圆制造行业。
氩气泄漏的处理措施。
迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。